삼성전자가 미래 먹거리인 시스템 반도체 경쟁력을 끌어올리기 위해 171조원을 투자한다.
삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 'K-반도체 벨트 전략 보고대회'에서 2030년까지의 시스템 반도체 투자 계획을 발표했다.
이날 김기남 삼성전자 부회장은 "대한민국의 반도체 산업은 거대한 분수령 위에 서 있다"며 "대격변을 겪는 지금이야말로 장기적인 비전과 투자의 밑그림을 그려야 할 때"라고 강조했다.
또 김 부회장은 "우리가 직면한 도전이 크지만, 현재를 넘어 미래를 향해 담대히 나아갈 것"이라고 말했다.
삼성전자는 시스템 반도체 리더십 조기에 확보하기 위해 2019년 4월 '시스템 반도체 비전 2030' 발표 당시 수립한 133조원의 투자 계획에 38조원을 추가해 2030년까지 총 171조원을 투자한다.
이를 통해 첨단 파운드리(반도체 위탁 생산) 공정 연구·개발과 생산라인 건설에 박차를 가한다.
최근 모든 산업 영역에서 전례 없는 반도체 부족 사태가 빚어지고 있는데, 이번 투자 확대가 K-반도체의 위상을 한층 더 높일 것으로 회사는 기대하고 있다.
2022년 하반기 완공되는 평택 3라인의 클린룸은 축구장 25개 크기다. EUV(극자외선) 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품을 양산한다.
모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리된다.
앞으로 삼성전자는 차세대 D램에 EUV 기술을 선도적으로 적용하고, 메모리와 시스템 반도체를 융합한 'HBM-PIM' 개발에 힘쓴다.
또 'CXL D램'과 같은 미래 메모리 솔루션 개발에도 속도를 낸다.
김기남 부회장은 "줄곧 선두를 지켜온 메모리 분야에서도 추격이 거세다"며 "수성에 힘쓰기보다 '초격차'를 벌리기 위해 선제적 투자에 앞장서겠다"고 했다.
정길준 기자 jeong.kiljhun@joongang.co.kr